Self-Diffusion in Amorphous Silicon by Local Bond Rearrangements

J. Kirschbaum, T. Teuber, A. Donner, M. Radek, D. Bougeard, R. Böttger, J. Lundsgaard Hansen, A. Nylandsted Larsen, M. Posselt, H. Bracht2018年PHYSICAL REVIEW LETTERSIF 8.6 出版社

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