Fluid modeling of discharge-pumped ArF excimer lasers: Effects of F2 concentration on pulsed discharge dynamicsOpen Access

本論文は、放電励起ArFエキシマレーザーのパルス放電ダイナミクスに対するフッ素（F2）濃度の影響を流体モデルを用いて解析したものです。レーザー効率や放電の安定性にF2濃度がどのように関わるかを明らかにし、最適な動作条件の探索に役立ちます。学生にも理解しやすいよう、基礎的な概念から説明されています。