An expression is obtained for the average potential, acting from the side of the high-frequency field on a bounded plasma in a magnetic field, the high-frequency field and the magnetic field being perpendicular. In the absence of a magnetic field, the results obtained are in good agreement with the known ones.
高周波場と磁場が互いに垂直である場合において、磁場中の有界プラズマに高周波場の側から作用する平均ポテンシャルの式が得られた。磁場が存在しない場合、得られた結果は既知の結果とよく一致する。