RF CCP source operable in the sub-mTorr regimeAvailable to Purchase

この論文は、サブミリトル（非常に低い圧力）領域で動作可能なRF（高周波）容量結合プラズマ（CCP）源について述べています。CCPは半導体製造や核融合研究などで用いられるプラズマ源の一種ですが、従来は低圧力での安定動作が困難でした。本研究では、新しい設計や制御手法により、サブミリトル領域でも安定したプラズマ生成を実現しました。これにより、より高真空に近い環境でのプラズマプロセスが可能となり、核融合や材料加工への応用が期待されます。