The author presents examples of high-power RF applications covering a frequency range of a few MHz up to microwave frequencies of several GHz. All examples refer to the RF generation of nonfusion plasmas meanwhile for many important technical processes. Some specific items are: inductively driven RF discharge for ion beam extraction (for space propulsion, ion surface treatment and ion implantation), RF-plate reactor (for etching and thin-film deposition in microelectronics), and newly developed microwave plasma sources (ECH discharges for large-area coatings of up to 200 m2/h, or for internal coating of pipes.
著者は、数MHzから数GHzのマイクロ波周波数までの周波数範囲をカバーする高出力RF応用の例を示している。すべての例は、多くの重要な技術プロセスにおける非プラズマRF生成に関するものである。具体的な項目としては、イオンビーム抽出のための誘導結合型RF放電（宇宙推進、イオン表面処理、イオン注入用）、RFプレートリアクター（マイクロエレクトロニクスにおけるエッチングおよび薄膜堆積用）、そして新しく開発されたマイクロ波プラズマ源（最大200 m²/hの大面積コーティング用、またはパイプの内面コーティング用のECH放電）が挙げられる。