A sensitive EUV Schwarzschild microscope for plasma studies with sub-micrometer resolution
U. Zastrau, C. Rödel, M. Nakatsutsumi, T. Feigl, K. Appel, B. Chen, T. Döppner, T. Fennel, T. Fiedler, L. B. Fletcher, E. Förster, E. Gamboa, D. O. Gericke, S. Göde, C. Grote-Fortmann, V. Hilbert, L. Kazak, T. Laarmann, H. J. Lee, P. Mabey, F. Martinez, K.-H. Meiwes-Broer, H. Pauer, M. Perske, A. Przystawik, S. Roling, S. Skruszewicz, M. Shihab, J. Tiggesbäumker, S. Toleikis, M. Wünsche, H. Zacharias, S. H. Glenzer, G. Gregori2018年Review of Scientific InstrumentsIF 1.6出版社
