We report the overdense electron acceleration and dense gamma ray emission via the use of two continuous laser pulses irradiating near critical density plasma. Thanks to the ion channel formed behind the first laser pulse, the leading laser beam is well focused to a higher intensity. As a result, the noticeable electron re-injection and ion focusing when one laser incident is significantly suppressed in the two-consecutive- lasers scheme, efficiently improved the electron acceleration process. Moreover, owing to the stronger laser field and the higher electron energy, the probability rate of the accelerated electron emitting γ-rays is considerably enhanced. In this regime, the laser intensity is reduced from to W cm−2 with the competitive density of generated gamma rays.
我々は、臨界密度近傍プラズマを照射する2つの連続レーザーパルスを用いた、過密電子加速と高密度ガンマ線放出について報告する。最初のレーザーパルスの背後に形成されるイオンチャネルにより、後続のレーザービームはより高い強度に集束される。その結果、単一レーザー入射時に顕著に見られる電子の再入射とイオンの集束が、2連続レーザー方式では大幅に抑制され、電子加速プロセスが効率的に改善される。さらに、より強いレーザー場とより高い電子エネルギーにより、加速電子がガンマ線を放出する確率が著しく増大する。この方式では、レーザー強度は W cm⁻² から W cm⁻² に低減されつつ、生成されるガンマ線の密度は競争力のあるものとなる。