The role of the edge stochastic layer on particle transport is addressed in DIII-D plasmas with applied resonant magnetic perturbations (RMPs) causing density pump-out (a term used to denote the density reduction at the top of the pedestal due to the applied RMPs). Using an analytical model that adds the stochastic parallel transport of electrons (Harvey et al 1981 Phys. Rev. Lett.47 102) to the fluid equations, the ambipolar radial electric field and particle flux are calculated simultaneously. In this model the nonambipolar electron particle flux, driven by the stochastic magnetic field, is predominantly balanced by the nonambipolar perpendicular ion flux, driven by toroidal viscosity, across a narrow stochastic layer of order two percent of the plasma radius (0.98 < ψn < 1). The model reproduces the level of density pump-out and its dependence on RMP amplitude near the separatrix for three plasma discharges for which the pedestal foot is at medium to high collisionality . The experimentally observed and numerically tested inverse density dependence of density pump-out (Hu et al 2020 Nucl. Fusion60 076001) is accurately captured by the model: an increase in collisionality with density in the pedestal foot results in a decrease in stochastic diffusivity, and hence a decrease in the level of pump-out.
DIII-Dプラズマにおける端部確率層が粒子輸送に及ぼす役割について、共鳴磁場摂動（RMP）の印加によって密度ポンプアウト（ペデスタル頂部における密度減少を表す用語）が引き起こされる場合を対象に考察する。流体方程式に電子の確率層平行輸送を追加した解析モデル（Harvey et al 1981 Phys. Rev. Lett. 47 102）を用いて、両極性動径電場と粒子束を同時に計算する。このモデルでは、確率磁場によって駆動される非両極性電子粒子束は、プラズマ半径の約2%の薄い確率層（0.98 < ψn < 1）において、トロイダル粘性によって駆動される非両極性垂直イオン粒子束によって主に釣り合う。このモデルは、ペデスタル底部が中程度から高い衝突頻度にある3つのプラズマ放電について、セパラトリックス近傍での密度ポンプアウトの大きさとそのRMP振幅依存性を再現する。実験的に観測され、数値的に検証された密度ポンプアウトの逆密度依存性（Hu et al 2020 Nucl. Fusion 60 076001）は、このモデルによって正確に再現される：ペデスタル底部における衝突頻度の密度に対する増加は、確率拡散係数の減少をもたらし、その結果ポンプアウトの程度が低下する。