The microwave power deposition profiles near the first (ω = 28 GHz) and the second (ω = 56 GHz) harmonic, for the magnetic configuration of the flexible heliac TJ-II, using several plasma density and temperature profiles, are obtained. Relativistic corrections to the dielectric tensor in the first harmonic are introduced, and a shift of the cyclotron resonance frequency into the region of higher magnetic field is found. Absorption considerations show that ECRH is not only a suitable way of plasma heating in this device but can, in addition, be used to control the temperature profile in the plasma.
マイクロ波パワー堆積分布が、フレキシブル・ヘリアックTJ-IIの磁気配位に対して、第一高調波（ω = 28 GHz）および第二高調波（ω = 56 GHz）付近で、いくつかのプラズマ密度・温度分布を用いて得られた。第一高調波における誘電テンソルへの相対論的補正が導入され、サイクロトロン共鳴周波数の高磁場領域へのシフトが見出された。吸収に関する考察により、ECRHはこの装置におけるプラズマ加熱の適切な方法であるだけでなく、さらにプラズマ中の温度分布を制御するためにも使用できることが示された。