Simulation of efficient extreme ultraviolet light generation from a 4- μm-wavelength laser irradiating pre-formed targetsOpen Access

この研究では、波長4μmのレーザーを予め形成されたターゲットに照射し、極端紫外（EUV）光を効率的に生成するシミュレーションを行いました。EUV光は次世代半導体リソグラフィに不可欠ですが、高出力かつ高効率な光源が求められています。4μmの長波長レーザーを使用することで、プラズマの密度や温度分布を最適化し、EUV変換効率を向上させる可能性が示されました。予備形成ターゲットの形状や密度を調整することで、レーザー吸収効率が高まり、EUV放射が増強されることが分かりました。この結果は、実用的なEUV光源の設計に貢献すると期待されます。