A method of plasma production by ion cyclotron wave heating has been developed in RFC-XX. Nagoya Type-III antennas were used for wave excitation, and gas was supplied through a gas box. The effect of the rotating field excitation on plasma production and heating was investigated. In the m = − 1 rotational mode (rotation in the direction of ion cyclotron motion), the plasma density profile is flat within the gas box bore with a line integrated density nℓ = 3 × 1013cm−2, and the ion temperature is Ti ≈ 150 eV. For the m = +1 mode, a high density plasma was obtained with a different profile having a peak at the centre. In this mode, the line integrated density is nℓ = 3 × 1014cm−2, with the peak density n(0) = 7 × 1013cm−3.
イオンサイクロトロン波加熱によるプラズマ生成法がRFC-XXにおいて開発された。波動励起にはNagoya Type-III アンテナが用いられ、ガスはガスボックスを通して供給された。プラズマ生成と加熱に対する回転電界励起の効果が調べられた。m = − 1 の回転モード（イオンサイクロトロン運動の方向の回転）では、プラズマ密度分布はガスボックスのボア内で平坦であり、線積分密度は nℓ = 3 × 10^13 cm^-2、イオン温度は Ti ≈ 150 eV である。m = +1 モードでは、中心にピークを持つ異なる分布の高密度プラズマが得られた。このモードでは、線積分密度は nℓ = 3 × 10^14 cm^-2 であり、ピーク密度は n(0) = 7 × 10^13 cm^-3 である。