Handbook of Advanced Plasma ProcessingTechniques has been written as a single introductory text forplasma processing engineers and researchers. Plasma processingis a rapidly mutating field, so up-to-date material is mostwelcome. The broad range of topics makes the book useful for companies trying to improve their products, in researchlaboratories where new techniques are sought, in technologicaluniversities, and every time researchers and developers wish tobroaden their knowledge of plasmas to lateral areas.After an introduction on the state of the art of plasma materialprocessing, the basic fundamentals of plasma physics arepresented in a direct, somewhat simplified, way. This may be useful for beginners, butthe expert reader may prefer something more challenging at thispoint. The chapter on modelling is divided into plasma modellingand reactor design. This second area is further dealt with in aseparate chapter. The overview of plasma diagnostic techniques,together with the references quoted therein, gives comprehensivecoverage of several diagnostics. Mass spectroscopy is dealt withseparately.In the latter two-thirds, the book is focused much more onprocesses. Dry etching, micromachining, PCVD, ion beam etchingand other processes are discussed with respect to many differentmaterials such as silicon, IIIV materials and magneticmaterials. Particular attention is given to damage and charging.The authors are expert and up to date. It is impossible to coverin a single volume all aspects of plasma processing, but it isreasonable to say that this book, together with all the materialreferenced within, aspires to this goal. Somewhat more Americanreferences, rather than European or Russian, are quoted; this isacceptable for the technological section, but rather incompletefor the sections on fundamental plasma physics and diagnostics.With contributions by several authors, some repetition isunavoidable; this may even help to ensure all chapters areself-consistent. In fact, like any handbook, it is designed moreto be consulted than to be read in full. Readers will appreciatethe effort of the authors of individual chapters in treating their own work topics andthose of the other authors in similar depth.Given the large amount of information provided, the book isreasonably good value for money.Dr B M Annaratone Max-Planck Institut für Extraterrestrische Physik D-85740 Garching
ハンドブック『先端プラズマプロセッシング技術』は、プラズマプロセッシング技術者および研究者のための単一の入門書として執筆された。プラズマプロセッシングは急速に変化し続ける分野であり、最新の内容を備えた本書は極めて時宜にかなったものである。本書の幅広いトピックの網羅は、製品改良を目指す企業、新技術の探究を行う研究機関、理工系大学、そしてプラズマに関する知識を周辺分野へと広げたいと願う技術者や研究者にとって有用である。プラズマ材料プロセッシングの最先端技術に関する序論に続き、プラズマ物理学の基礎が直接的かつ簡略化された形で提示されている。これは初心者には有用であるが、専門家にとってはより高度な内容を望むところであろう。モデリングに関する章は、プラズマモデリングとリアクターデザインに分かれており、後者についてはさらに別の章で詳述されている。プラズマ診断技術の概説は、そこに引用された参考文献とともに、複数の診断手法を包括的にカバーしている。質量分析法は独立した節で扱われている。本書の後半3分の2は、プロセスに重点が置かれている。ドライエッチング、マイクロマシニング、PCVD、イオンビームエッチングなどのプロセスが、シリコン、III-V族材料、磁性材料など多種多様な材料に関連して論じられている。損傷とチャージングの問題には特に注意が払われている。プラズマプロセッシングの全側面を単一の巻で網羅することは不可能であるが、本書が参照するすべての資料とともに、この目標の達成を目指していることは妥当な主張である。引用文献はややアメリカ中心であるが、これは技術分野では許容されるものの、基礎プラズマ物理学と診断に関する章ではやや不完全である。複数の著者による寄稿のため、いくつかの重複は避けられないが、これは各章の自己完結性を保証する上でむしろ役立っている。実際、あらゆるハンドブックと同様に、本書は通読されるというよりは参照されることを意図して設計されている。読者は、各章の著者が自身の研究テーマを扱う際の努力と、他の著者のテーマと同程度の深さでの扱いを評価するであろう。提供される情報量の多さを考慮すれば、本書は価格に見合った価値を十分に提供している。Dr. B. M. Annaratone、マックス・プランク地球外物理学研究所、D-85740 ガルヒング