Experimental studies on the origin of metal impurities in DIVA are described. Three processes of metal impurity release, i.e. ion sputtering, evaporation and arcing, have been identified. Among these processes, ion sputtering is the dominant process in the quiet phase of the discharge, which is characterized by the lack of spikes in the loop voltage as well as by the fact that no heat flux concentration towards a specific part of the first wall takes place. Moreover, it is demonstrated that a honeycomb structure can decrease the metal impurity release.
DIVAにおける金属不純物の起源に関する実験的研究について述べる。金属不純物放出の三つの過程、すなわちイオン・スパッタリング、蒸発、およびアーキングが同定された。これらの過程のうち、イオン・スパッタリングが放電の静穏期における支配的な過程であり、この静穏期は、ループ電圧にスパイクが存在しないこと、および第一壁の特定部分への熱流束の集中が生じないことによって特徴づけられる。さらに、ハニカム構造が金属不純物の放出を低減できることが実証された。