Investigation of plasma characteristics in a developed large-diameter, low-aspect ratio, radio frequency plasma source with a flat spiral antennaAvailable to Purchase

この論文では、新しく開発された大口径のプラズマ源について研究しています。このプラズマ源は、平らなスパイラル状のアンテナを使い、低いアスペクト比（高さに対して直径が大きい形）を持つのが特徴です。プラズマは半導体製造などに使われる重要な技術で、この研究ではプラズマの密度や均一性など、その特性を詳しく調べています。結果はまだ明確ではありませんが、大型の基板を処理するための効率的なプラズマ源の開発に役立つと考えられます。