Investigation of plasma characteristics in a developed large-diameter, low-aspect ratio, radio frequency plasma source with a flat spiral antennaAvailable to Purchase

Takeru Furukawa, Yuya Niimura, Keigo Kamiuchi, Hiromasa Takeno2026年7月Review of Scientific InstrumentsIF 1.6 出版社

AIによる論文要約

開発された大口径・低アスペクト比、フラットスパイラルアンテナを備えた高周波プラズマ源におけるプラズマ特性の調査

JAプラズマ物理や半導体製造技術に興味のある研究者、エンジニア、大学院生。新しいプラズマ源の設計や特性評価に携わる人に役立ちます。#プラズマ #RFプラズマ #スパイラルアンテナ #半導体製造 #プラズマ源

LLM向け: {"Title": "大口径・低アスペクト比のフラットスパイラルアンテナを用いたRFプラズマ源におけるプラズマ特性の調査", "Authors": "N/A",…

この論文では、新しく開発された大口径のプラズマ源について研究しています。このプラズマ源は、平らなスパイラル状のアンテナを使い、低いアスペクト比（高さに対して直径が大きい形）を持つのが特徴です。プラズマは半導体製造などに使われる重要な技術で、この研究ではプラズマの密度や均一性など、その特性を詳しく調べています。結果はまだ明確ではありませんが、大型の基板を処理するための効率的なプラズマ源の開発に役立つと考えられます。