This paper deals with the study of erosion and surface phenomena of liquid Ga exposed to a capacitively coupled rf-plasma. We have observed a very high erosion yield in Ar plasmas which cannot be explained by sputtering alone. Time resolved observations of the plasma–gallium interaction indicate that the formation of gas cavities inside the Ga and their explosive outgassing might be one of the important erosion mechanisms in our experiments.
本論文は、容量結合RFプラズマに曝露された液体Gaの侵食および表面現象に関する研究を扱っている。Arプラズマ中において、スパッタリングのみでは説明できない非常に高い侵食収率が観察された。プラズマとガリウムの相互作用の時間分解観察により、Ga内部でのガスキャビティの形成と、その爆発的脱ガスが、本研究の実験における重要な侵食メカニズムの一つである可能性が示唆された。