Pressure dependence of magnetron sputtering: 2D-RZ particle-in-cell and 1D fluid modelingOpen Access

マグネトロンスパッタリングは薄膜形成に広く用いられる手法です。本研究では、プロセスガス圧力がスパッタリング特性に与える影響を、2次元RZ粒子セル法（PIC）と1次元流体モデルという2つのシミュレーション手法を用いて解析しました。圧力変化によるプラズマ密度やイオンエネルギーの変化を詳細に調べ、実験結果と比較することでモデルの妥当性を検証しています。この研究により、圧力最適化の指針が得られ、より効率的なスパッタリングプロセスの設計に貢献します。