The response of a Tokamak plasma to an additional heating pulse is enigmatic. The paper presents results of the dynamical response on the electron temperature, deduced from the soft X-ray emissivity profile, to additional Alfven wave heating power. Most of the study used quasi-steady state sinusoidal modulation of the delivered r.f. power, but data are also included on the step-function response at the end of the r.f. pulse, and the impulse response to short periodic r.f. pulses. These different approaches all show similar behaviour of the radial profile of the response phase, which is dominated by a central flat region within the q=1 surface, with, at the higher frequencies used, a minimum phase of close to 180 degrees . Moving further outside the q=1 radius the phase increases extremely sharply. This basic character of the phase profile is not altered by varying the calculated power deposition profile but is still defined by the q=1 radius, demonstrated by a plasma current scan at constant toroidal field. In addition to the soft X-ray flux baseline modulation, the sawtooth period is modulated, but out of phase with r.f. power. These effects have been studied as a function of modulation frequency, plasma current, r.f. power and Alfven wave mode.
トカマクプラズマの追加加熱パルスに対する応答は難解である。本論文は、軟X線 emissivity プロファイルから推定された電子温度の、追加アルフヴェン波加熱パワーに対する動的応答の結果を示す。研究の大部分は、印加された高周波パワーの準定常正弦波変調を用いたが、高周波パルス終了時のステップ関数応答と、短周期高周波パルスに対するインパルス応答に関するデータも含まれている。これらの異なるアプローチはすべて、応答位相の動径プロファイルにおいて同様の挙動を示し、q=1 面内では中央の平坦領域が支配的であり、使用したより高い周波数では、位相は約 180 度の最小値に近づく。q=1 半径のさらに外側では、位相は極めて急激に増加する。この位相プロファイルの基本的な特性は、計算されたパワー堆積プロファイルを変化させても変わらないが、q=1 半径によって依然として決定され、これは一定トロイダル磁場でのプラズマ電流走査によって実証された。軟X線フラックスのベースライン変調に加えて、鋸歯状振動周期は変調されるが、その位相は高周波パワーとずれている。これらの効果は、変調周波数、プラズマ電流、高周波パワー、およびアルフヴェン波モードの関数として研究された。