Measurements of the heat load on C (isotropic graphite) and W targets wereperformed in linear steady plasma facility MAP-II (materials and plasma),which produces a low-energy hydrogen plasma 10-20 eV with an electron densityof (1.0-5.0)×1017 m-3. From the measurements of the heatremoved by the target coolant, heat flow to the target and Balmer intensitiesnear the targets we found that the heat load was larger on the C target than Wbecause of higher molecular hydrogen desorption. The population densities ofvibrational levels in the d 3Πu state of molecular hydrogenshifted to higher levels near the C target in the spectroscopy of the Fulcherband. From these results, it was found that molecular hydrogen desorptionplays an important role in the heat load on plasma facing materials and itdepends on the materials, which have different characteristics of hydrogenmolecular desorption and energy states of desorbed hydrogen.
C（等方性黒鉛）およびWターゲットへの熱負荷の測定を、低エネルギー水素プラズマ（10〜20 eV、電子密度（1.0〜5.0）×10¹⁷ m⁻³）を生成する線形定常プラズマ装置MAP-II（materials and plasma）において実施した。ターゲット冷却材によって除去された熱量、ターゲットへの熱流束、およびターゲット近傍のバルマー系列強度の測定から、分子状水素の脱離が大きいことに起因して、WターゲットよりもCターゲットの方が熱負荷が大きいことが判明した。フルチャー帯の分光測定により、Cターゲット近傍では分子状水素のd³Πu状態の振動準位の分布がより高い準位へシフトしていることが明らかになった。これらの結果から、分子状水素の脱離はプラズマ対向材料への熱負荷において重要な役割を果たしており、材料によって水素分子の脱離特性および脱離水素のエネルギー状態が異なることが示された。