The influence of resistivity on the propagation of axisymmetric shear Alfven waves excited by a localized antenna in a cylindrical nonuniform plasma is discussed. It is shown that the dominant effect of a small resistivity on localized disturbances is the diffusion of the nonuniform wave fields. The result is compared to a recent laboratory experiment.
抵抗率が、円筒状の非一様プラズマ中で局所的に励起された軸対称シア・アルフヴェン波の伝播に及ぼす影響について考察する。小さな抵抗率が局所的な擾乱に及ぼす支配的な効果は、非一様な波動場の拡散であることが示される。この結果は、最近の実験と比較される。