An schlieren method with sub-millimeter and sub-nanosecond resolution was used to investigate profile variations of a fast collapsing focus plasma. Computer simulations allowed the authors to trace rays through the plasma and the schlieren system to the film plane where they produce intensity distributions which depend on density profiles of the plasma. In matching simulated intensity distributions to experimentally produced schlieren pictures, parameter ranges for density, density gradients and sheath thickness have been determined.
サブミリメートルおよびサブナノ秒の分解能を有するシュリーレン法を用いて、高速収縮フォーカスプラズマのプロファイル変動を調査した。コンピュータシミュレーションにより、著者らはプラズマおよびシュリーレンシステムを透過する光線をフィルム面まで追跡し、そこでプラズマの密度プロファイルに依存する強度分布を生成した。シミュレーションによる強度分布を実験で得られたシュリーレン画像と照合することにより、密度、密度勾配、およびシース厚のパラメータ範囲が決定された。