The central cell density and the diamagnetic signal weredoubled as a result of plug potential formation by ECRH in hot ionmode experiments on the GAMMA 10 tandem mirror. In order toobtain these remarkable results, the axisymmetrized heatingpatterns of ECRH and ICRF heating were optimized. Furthermore,conducting plates were installed adjacent to the surface ofthe plasma along the flat shaped magnetic flux tube located inthe anchor transition regions; the plates may contribute tothe reduction of some irregular electric fields producedpossibly with ECRH in these thin flux tube regions. Theconducting plates contributed to reducing the radial loss rateto less than 3% of the total particle losses, along with improvements in the reproducibility of the experiments and thecontrollability of the potential confinement. The increases incentral cell density and diamagnetism in associationwith the increase in plug potentials scaled well withincreasing ECRH power. A plug potential of 0.6 kV and adensity increase of 100% were achieved using an ECRH power of140 kW injected into both plug regions. The plasma confinementwas improved by an order of magnitude over a simple mirrorconfinement owing to the tandem mirror potential formation.
GAMMA 10タンデムミラー装置における高温イオンモード実験で、ECRHによるプラグ電位形成の結果、中心セル密度と反磁性信号は2倍になった。これらの顕著な結果を得るために、ECRHおよびICRF加熱の軸対称化された加熱パターンは最適化された。さらに、アンカー遷移領域の平坦な磁束管形状に沿ったプラズマ表面近傍に導電板が設置された。これらの導電板は、薄い磁束管領域におけるECRHによっておそらく生成されるいくつかの不規則な電場の低減に寄与した可能性がある。導電板は、全粒子損失に対する半径方向損失率を3%未満に低減することに寄与し、それに伴い実験の再現性と電位閉じ込めの制御性が向上した。プラグ電位の増加に伴う中心セル密度と反磁性の増加は、ECRHパワーの増加とともに良好にスケーリングした。両プラグ領域に注入された140 kWのECRHパワーを用いて、0.6 kVのプラグ電位と100%の密度増加が達成された。タンデムミラー電位形成により、単純ミラー閉じ込めと比較してプラズマ閉じ込めは一桁改善された。