A transport analysis is reported of a series of discharges in the Rijnhuizen Tokamak Project (RTP) tokamak, in which Zeff was varied by using mixtures of helium and neon as the filling gas. Zeff was scanned over the range 5.1 to 9.5. As a reference, pure deuterium plasmas with Zeff ≲ 2 were used. Only a very weak dependence of χe on Zeff is observed, both in ohmic and in ECH discharges. The scaling of χe with ne and Zeff is consistent with the scaling of the global τEe, both showing an absence of scaling with Zeff. Scaling with the collisionality shows χe ~ νe*0.4 in ohmic discharges. A comparison is made with the predictions of transport models. Some models correlate with either the ohmic or the ECH data set. None of the tested models, however, predicts the observed Zeff dependence of χe in both ohmic plasmas and during ECH. It is noted that the ohmic discharges are in the plateau regime, while the ECH discharges are largely in the banana regime
Rijnhuizen Tokamak Project（RTP）トカマクにおける一連の放電の輸送解析を報告する。これらの放電では、充填ガスとしてヘリウムとネオンの混合物を用いることによりZeffを変化させた。Zeffは5.1から9.5の範囲にわたって走査された。参照として、Zeff ≲ 2の純重水素プラズマが使用された。オーミック放電とECH放電の両方において、χeのZeffに対する依存性は非常に弱いことだけが観測される。χeのneおよびZeffに対するスケーリングは、全体的なτEeのスケーリングと一致しており、両方ともZeffに対するスケーリングがないことを示している。衝突度に対するスケーリングは、オーミック放電においてχe ~ νe*0.4を示す。輸送モデルの予測との比較が行われる。いくつかのモデルは、オーミックまたはECHのデータセットのいずれかと相関する。しかしながら、試験されたモデルのいずれも、オーミックプラズマとECH中の両方におけるχeの観測されたZeff依存性を予測しない。オーミック放電はプラトー領域にあり、ECH放電は大部分がバナナ領域にあることに留意されたい。