Two-dimensional PIC/MCC modeling of inductively coupled plasma: A benchmark study in the GEC configurationOpen Access

この論文では、GEC（Gaseous Electronics Conference）基準セルを用いた誘導結合プラズマ（ICP）の二次元粒子・セル・モンテカルロ衝突（PIC/MCC）シミュレーションのベンチマークを実施しました。実験データとの比較を通じて、コードの精度を検証しています。この研究は、プラズマシミュレーションの信頼性向上に貢献します。