誘導結合プラズマ（Inductively coupled plasma、inductively coupled plasmas）は、核融合・プラズマ物理学の現象。コイルに高周波電流を流して誘導電場を生じさせ、その電場で電子を加熱して生成されるプラズマである。半導体エッチングや成膜、プラズマトーチなど材料プロセスに広く用いられ、低圧で高密度のプラズマが得られる。この用語集が追う論文のうち、タイトルにこの主題が現れるものは132本ある。比重が最も大きかったのは2020–2024年で、その期間の論文の0.37%を占めた。直近の2025–2029年では0.22%。この用語集がこの主題を最初に拾うのは1990年以降で、それ以前の収録論文には現れない。
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研究の変遷
1985–19941本 · 0.02%
質量分析インターフェースとしての出現
この時代の論文は1件のみであり、レーザーアブレーションと組み合わされて、誘導結合プラズマ質量分析におけるヨウ素の較正標準として扱われている。コーパス全体に占める割合は0.02%で、ICPはまだごくわずかな存在である。
同時に語られた主題レーザーアブレーション、アブレーション
この時代の論文から
- Iodine as a tuning standard for laser ablation–inductively coupled plasma‐mass spectrometryReview of Scientific Instruments 1993
1995–200419本 · 0.19%
半導体プロセスと非線形物理への拡張
プラズマ加熱、磁化プラズマ、熱輸送、電子加熱といった話題と並んで、ICPは半導体プロセッシング用の源として論じられている。0.5MHzにおける非線形電磁場やデュアルICP、低周波振動など、放電の非線形性と反応器構成が検討されている。
同時に語られた主題プラズマ加熱、磁化プラズマ、熱輸送、電子加熱
この時代の論文から
この数字の作り方
- 数え方 —
- 同じものが別の名前で書かれていてもまとめて数えている（Inductively coupled plasma、inductively coupled plasmas など）。綴りが変わった時期に推移が動いて見える、ということは起きない
- 割合 —
- その時代の収録論文全体に占める比率。コーパスは1970年代より2010年代のほうが9倍大きいため、本数のままではほとんどの主題が右肩上がりに見えてしまう
- 記述 —
- その時代の論文・共起する主題・登場する装置だけを根拠にAIが書いている
- 冒頭の定義 —
- 用語そのものの説明だけは、論文3本の要旨を読ませたうえでAIの分野知識で書かせている。ここだけは収録論文に書かれていることの要約ではない
- 範囲 —
- 収録は6誌に限られる。ここで減っていることは、分野がその取り組みをやめたことを意味しない