By the use of simultaneous fast toroidal and slow poloidal sweeps of a heavy ion beam, plasma potential profiles in the JIPP T-IIU tokamak are measured at the rate of 120 spatial profiles per second. A new method to eliminate the error due to the change of out-of-plane entrance angle caused by large plasma current is successfully applied. One of the key factors is the very homogeneous characteristics of the energy analyser along the wide slit length. A shaped electrode system, instead of guard rings with a resistor chain, successfully increases the homogeneity of the analyser. Error due to the significant change of in-plane entrance angle during a poloidal sweep is carefully minimized and calibrated by a secondary beam ionized by neutral gas introduced in the vacuum vessel. The depth of the measured potential at the plasma centre reaches more than 1.5 keV in ohmic plasmas with an ion temperature of 600 eV. In some cases, a rather wide region of positive potential and a sharp decrease of the potential in the centre of the plasma are observed.
JIPP T-IIUトカマクにおいて、重イオンビームプローブを用いて、高速トロイダル掃引と低速ポロイダル掃引を同時に行うことにより、プラズマ電位分布を毎秒120空間プロファイルの速度で測定した。大きなプラズマ電流によるビームの出射面外角度の変化に起因する誤差を除去する新しい方法を適用し、成功した。その鍵となるのは、エネルギー分析器が長いスリット方向にわたって非常に均一な特性を持つことである。抵抗チェーン付きガードリングの代わりに成形電極システムを用いることで、分析器の均一性が向上した。ポロイダル掃引中のビームの入射面内角度の大きな変化による誤差は、真空容器内に導入された中性ガスによって電離された二次ビームを用いて注意深く補正し、較正した。測定されたプラズマ中心の電位の深さは、イオン温度600 eVのオーミックプラズマにおいて1.5 keV以上に達した。また、場合によっては、プラズマ中心に正の電位の広い領域と急峻な電位低下が観測された。