A new scheme of plasma production and ion heating in the central cell of the tandem mirror is demonstrated. Helicon mode plasma production in combination with two ion species plasma heating by mode conversion of a fast Alfven wave into a slow Alfven wave realizes ion heating of a high density plasma, and could remove the density limitation caused by the conventional scheme using slow ion cyclotron waves. The achieved value of products of electron density and average ion temperature is 9*1020 eV.m-3 for an RF power of 165 kW. Analysis of wave damping indicates that matching the radiation spectrum of the antenna with the damping spectrum results in efficient plasma production. The phased dual double-half-turn antenna is suitable for helicon wave spectrum control
タンデムミラーの中央セルにおけるプラズマ生成とイオン加熱の新しい方式が実証された。ヘリコン波モードのプラズマ生成と、高速アルフベン波の低速アルフベン波へのモード変換による2イオン種プラズマ加熱の組み合わせにより、高密度プラズマのイオン加熱が実現され、従来の低速イオンサイクロトロン波を用いた方式による密度限界を除去できる可能性がある。電子密度と平均イオン温度の積の達成値は、RFパワー165 kWにおいて9*1020 eV.m-3である。波の減衰解析により、アンテナの放射スペクトルと減衰スペクトルの整合が効率的なプラズマ生成をもたらすことが示された。位相制御デュアルダブルハーフターンアンテナはヘリコン波スペクトル制御に適している。