Anomalous ion temperature and plasma resistance have been studied in reversed Held pinch discharges of the REPUTE-1 device. The ion temperature measured by Doppler broadening of carbon V (2271 Å) has been observed to be anomalously high in hydrogen discharges with low electron density (e ≤ 0.5 × 1014 cm−3); also the plasma resistance is anomalously large in these discharges. The ion temperature and the plasma resistance are shown to increase with the MHD fluctuation level. The profiles of ion temperature and soft X-ray emission have been found to be more peaked in the lower electron density regime than in the higher one. A high ion temperature and a large plasma resistance are observed simultaneously when the profile of the soft X-ray emission Isx is more peaked. If Isx is mainly affected by the electron temperature profile(Isx ∝ ne2Te3.5),the experimental observations are in qualitative agreement with a calculation showing that the heating power of ions is larger when the electron temperature has a more peaked profile in a magnetic configuration.
逆転磁場ピンチ装置REPUTE-1の放電において、異常なイオン温度とプラズマ抵抗が研究された。炭素V（2271 Å）のドップラー広がりにより測定されたイオン温度は、低電子密度（ne ≤ 0.5 × 10¹³ cm⁻³）の水素放電において異常に高いことが観測された。また、これらの放電ではプラズマ抵抗も異常に大きい。イオン温度とプラズマ抵抗は、MHD揺動レベルとともに増加することが示された。イオン温度と軟X線放射の分布は、高電子密度領域よりも低電子密度領域においてよりピーク化していることが見出された。軟X線放射Isxの分布がよりピーク化しているとき、高いイオン温度と大きなプラズマ抵抗が同時に観測される。もしIsxが主に電子温度分布に影響されるならば（Isx ∝ ne²Te^3.5）、実験的観測は、磁気配位において電子温度分布がよりピーク化しているときにイオンへの加熱パワーが大きくなるという計算と定性的に一致する。