It was found that error field threshold decreases for high β in NSTX, although the density correlation in conventional threshold scaling implies the threshold would increase since higher β plasmas in our study have higher plasma density. This greater sensitivity to error field in higher β plasmas is due to error field amplification by plasmas. When the effect of amplification is included with ideal plasma response calculations, the conventional density correlation can be restored and threshold scaling becomes more consistent with low β plasmas. However, it was also found that the threshold can be significantly changed depending on plasma rotation. When plasma rotation was reduced by non-resonant magnetic braking, the further increase in sensitivity to error field was observed.
NSTXにおいて、高βでは誤差磁場閾値が減少することが見出された。しかしながら、従来の閾値スケーリングにおける密度相関は、本研究の高βプラズマはより高いプラズマ密度を有するため、閾値が増加することを示唆する。高βプラズマにおけるこの誤差磁場に対するより大きな感度は、プラズマによる誤差磁場の増幅に起因する。増幅の効果を理想プラズマ応答計算とともに含めると、従来の密度相関が回復され、閾値スケーリングは低βプラズマとより整合的になる。しかしながら、閾値はプラズマ回転に依存して有意に変化し得ることも見出された。非共鳴磁気制動によってプラズマ回転が低減されると、誤差磁場に対する感度のさらなる増加が観測された。