An MHD formulation is used in the study of a wall-stabilized high beta mirror plasma with isotropic pressure. The stabilizing wall extends axially only over a part of the distance between the mirror midplane and the throat. In a model of this arrangement, a wall is used which is near the plasma surface in the bad curvature region and distant from the plasma surface in the good curvature region. A variational method is used to solve the equations for both regions. For the connection of the regions of close and distant plasma-wall proximity, a jump condition is used. The variational calculation is performed with a simple trial function (the choice of the trial function is substantiated with an exact numerical solution). The results show that (a) the removal of the conducting wall in the good curvature region does not significantly degrade plasma stability, (b) the acceptable ratio of the radius of the conducting wall to the plasma radius is about 1.1, and (c) for cases with a low mirror ratio, more conducting wall is needed for stability than for cases with a high mirror ratio. This is in agreement with the physical mechanism of wall stabilization.
等方圧力を持つ壁安定化高ベータミラープラズマの研究にはMHD定式化が用いられる。安定化壁は、ミラー中間面とスロートとの間の距離の一部にのみ軸方向に延びている。この配置のモデルでは、悪曲率領域ではプラズマ表面に近く、良曲率領域ではプラズマ表面から遠い壁が用いられる。変分法を用いて、両方の領域の方程式を解く。プラズマと壁が近接した領域と遠い領域の接続には、ジャンプ条件が用いられる。変分計算は単純な試行関数を用いて行われる（試行関数の選択は正確な数値解によって裏付けられる）。結果は、(a) 良曲率領域における導電壁の除去はプラズマ安定性を著しく低下させないこと、(b) 導電壁の半径とプラズマ半径の比の許容値は約1.1であること、(c) 低ミラー比の場合には、高ミラー比の場合よりも安定性のためにより多くの導電壁が必要であることを示している。これは壁安定化の物理的メカニズムと一致している。