Comparative investigations of ion energy distributions in pulse-modulated and continuous wave Ar inductively coupled plasmaAvailable to Purchase

本研究は、パルス変調されたアルゴン誘導結合プラズマ（ICP）と連続波ICPにおけるイオンエネルギー分布を比較したものです。プラズマプロセッシングにおけるイオンエネルギーの制御は重要であり、パルス変調がイオンエネルギー分布にどのような影響を与えるかを調べることで、より精密なプロセス制御が可能になると期待されます。実験的な比較を通じて、パルス変調がイオンエネルギーの分布や平均エネルギーを変化させることが示唆されており、半導体製造や薄膜形成などの応用に役立つ知見を提供します。