Comparative investigations of ion energy distributions in pulse-modulated and continuous wave Ar inductively coupled plasmaAvailable to Purchase

Chan Xue, Jia-Hui Zhang, Sha-Sha Song, Wei Liu2026年7月Physics of PlasmasIF 2.2 出版社

AIによる論文要約

パルス変調および連続波アルゴン誘導結合プラズマにおけるイオンエネルギー分布の比較調査

JAプラズマ物理学の研究者、半導体製造・薄膜プロセスのエンジニア、およびプラズマ応用技術に関心のある学生#PlasmaPhysics #ICP #IonEnergyDistribution #PulseModulation #PlasmaProcessing

LLM向け: {"Title": "パルス変調と連続波アルゴン誘導結合プラズマにおけるイオンエネルギー分布の比較研究", "Authors": "記載なし", "Resear…

本研究は、パルス変調されたアルゴン誘導結合プラズマ（ICP）と連続波ICPにおけるイオンエネルギー分布を比較したものです。プラズマプロセッシングにおけるイオンエネルギーの制御は重要であり、パルス変調がイオンエネルギー分布にどのような影響を与えるかを調べることで、より精密なプロセス制御が可能になると期待されます。実験的な比較を通じて、パルス変調がイオンエネルギーの分布や平均エネルギーを変化させることが示唆されており、半導体製造や薄膜形成などの応用に役立つ知見を提供します。