Detached plasma dynamics under transient upstream perturbations were investigated in the divertor simulation module of GAMMA 10/PDX using double-pulse central electron cyclotron heating (C-ECH) to generate controlled transient heat and particle fluxes. Detached plasma was produced by radiator gas injection, and its temporal evolution was measured with electrostatic probes, Thomson scattering, microwave interferometry, and high-speed Balmer-line imaging. The intermittent particle fluxes generated by C-ECH induced rapid and repeatable transitions between detached and attached states, with characteristic collapse and recovery times of approximately 1 ms. Spatiotemporal Hα/Hβ measurements revealed a transient, heating-driven shift of the recombining (MAR-dominated) region toward the target plate, accompanied by a transition to an ionization-dominated regime. Comparison with a collisional-radiative model indicates that the observed variations in Hα/Hβ reflect temperature-driven changes in excitation and recombination processes, although the line-integrated nature of the measurement limits quantitative comparison. The response times are comparable to those reported in Magnum-PSI transient-pulse experiments, demonstrating that detachment stability is sensitive to millisecond-scale perturbations across different magnetic configurations and plasma species. These results establish double-pulse C-ECH as a precise actuator for studying and controlling detachment-like plasma states in the end region of mirror devices.
非接触プラズマの過渡的上流摂動下でのダイナミクスを、GAMMA 10/PDXのダイバータ模擬モジュールにおいて、制御された過渡的な熱および粒子束を生成するための二重パルス中心電子サイクロトロン加熱（C-ECH）を用いて調査した。非接触プラズマは放射体ガス注入によって生成され、その時間発展は静電プローブ、トムソン散乱、マイクロ波干渉法、および高速バルマー線イメージングによって測定された。C-ECHによって生成された間欠的な粒子束は、非接触状態と接触状態の間の高速かつ再現性のある遷移を誘発し、その特徴的な崩壊および回復時間は約1ミリ秒であった。時空間的なHα/Hβ測定により、加熱駆動による過渡的な再結合（MAR支配）領域のターゲットプレート方向への移動が明らかになり、それに伴って電離支配領域への遷移が生じた。衝突放射モデルとの比較は、観測されたHα/Hβの変化が励起および再結合過程における温度駆動の変化を反映していることを示しているが、測定の線積分的性質が定量的比較を制限している。応答時間は、Magnum-PSI過渡パルス実験で報告されたものと同程度であり、非接触状態の安定性が、異なる磁場配位およびプラズマ種にわたってミリ秒スケールの摂動に敏感であることを示している。これらの結果は、二重パルスC-ECHが、ミラー装置の端部領域における非接触様プラズマ状態を研究および制御するための精密なアクチュエータであることを確立する。