Experimental results on the observations of strong potential double layers, characterized by e Delta Phi /kTe>10, in a modified double plasma device are presented. Dependence of the potential jump on various parameters is investigated. Measurements on various characteristics of the potential double layers and their comparison with theoretical and numerical simulation results are presented. It is observed that injection of a large amount of electron current in the target region leads to stronger double layers at larger relative biases. The potential jumps in the device are not limited to the ionization potential of the neutral gas and it is not necessary to resort to specially designed sources on low and high potential sides to obtain strong double layers.
修正二重プラズマ装置における、e ΔΦ /kTe > 10 を特徴とする強い電位二重層の観測に関する実験結果を提示する。種々のパラメータに対する電位ジャンプの依存性を調査する。電位二重層の種々の特性の測定結果と、理論的および数値シミュレーション結果との比較を提示する。ターゲット領域への多量の電子電流の注入が、より大きな相対バイアスにおいてより強い電位二重層をもたらすことが観測される。装置内の電位ジャンプは中性ガスの電離電位に限定されず、強い電位二重層を得るために低電位側および高電位側に特別に設計された源を用いる必要はない。