When resistive interchange modes (RIMs) are unstable in aStellarator/Heliotron device, they may change the pressure profile even forβ values lower than the ideal β limit. The nonlinear RIM withn/m = 2/3 modifies the density profile in the vicinity of the resonantsurface with ι = 2/3 easily under the assumption of constanttemperature. Here m(n) is a poloidal (toroidal) mode number andι is a rotational transform. Also poloidal shear flow is generatedthere, which limits the region of density profile modificationsubstantially. The sign of the density gradient becomes positive at theresonant surface. A quasi-stationary profile is obtained forlow-collisional plasmas. When the collision frequency is high, localhumps are produced in the background density profile, and they have atendency to move to the resonant surface. It is also shown that thedensity profile including humps is correlated with the poloidal velocityshear profile. Here the typical shearing rate of the poloidal flow at thesaturated state exceeds the linear growth rate of the (m,n) = (3,2) mode.
抵抗性交換モード（RIM）がステラレーター/ヘリオトロン装置において不安定であるとき、それらはベータ値が理想ベータ限界より低い場合でも圧力分布を変化させ得る。トロイダルモード数n/ポロイダルモード数m = 2/3を有する非線形抵抗性交換モードは、一定温度の仮定の下で、回転変換ι = 2/3を有する共鳴面近傍の密度分布を容易に修正する。ここで、mはポロイダルモード数、nはトロイダルモード数、ιは回転変換である。また、そこではポロイダルシア流が生成され、これが密度分布の修正領域を大幅に制限する。密度勾配の符号は共鳴面において正になる。低衝突周波数プラズマに対しては、準定常分布が得られる。衝突周波数が高い場合には、背景密度分布に局所的な隆起が生成され、それらは共鳴面に向かって移動する傾向がある。また、隆起を含む密度分布はポロイダル速度シア分布と相関することが示される。ここで、飽和状態におけるポロイダル流の典型的なシア率は、(m, n) = (3, 2)モードの線形成長率を上回る。