Transport simulations of JET H-mode plasmas with different νeff have been performed in order to quantify the relative effect of the particle source and anomalous pinch on the gradient of the density profile. It is found that, in general, the wall ionization source and the Ware pinch velocity are not sufficient to explain the density peaking. Adding the particle source due to neutral beam injection (NBI) and an anomalous pinch proportional to D∇q/q gives results that are compatible with the experimental measurements. However, the effects of the two terms are comparable and difficult to separate. The presence of an anomalous pinch can only be clearly identified in shots heated mainly by ion cyclotron resonance heating (ICRH) where the NBI particle source is negligible.
異なるνeffを用いたJET Hモードプラズマの輸送シミュレーションを実施し、密度プロファイルの勾配に対する粒子源と異常ピンチの相対的な影響を定量化した。一般に、壁電離源とWareピンチ速度だけでは密度のピーキングを説明できないことが見出された。中性粒子ビーム入射（NBI）による粒子源と、D∇q/qに比例する異常ピンチを追加することで、実験測定値と整合する結果が得られた。しかしながら、これら二つの項の効果は同程度であり、分離は困難である。異常ピンチの存在を明確に特定できるのは、NBI粒子源が無視できるほど小さいイオンサイクロトロン共鳴加熱（ICRH）主体の加熱を行うショットにおいてのみである。