A visible bremsstrahlung detector array system for Zeff measurements and a charge exchange recombination spectroscopy system for fully ionized impurity profile measurements have been installed on JIPP T-IIU to study impurity transport in neutral beam injection (NBI) and ion cyclotron resonance frequency (ICRF) heated plasmas. More impurities are sputtered during ICRF heating than during NBI and/or Ohmic heating. The contribution of carbon to Zeff is 80-90% for NBI heated plasmas and 60% for NBI + ICRF heated plasmas. With carbon coating of the vacuum vessel, the contribution of carbon to Zeff becomes 80-90% also for NBI + ICRF heated plasmas. From the radial profile and the time evolution of fully ionized carbon after the ICRF pulse is turned on, a diffusion coefficient Da of 1.0 m2·s−1 and a convective velocity va(a) of 13 m·s−1 for the carbon impurity at the plasma edge are obtained.
JIPP T-IIUにおいて、不純物輸送を研究するために、Zeff測定用の可視光制動放射検出器アレイシステムと、完全電離不純物分布測定用の荷電交換再結合分光システムを設置した。NBIおよび/またはオーミック加熱中よりもICRF加熱中の方が多くの不純物がスパッタリングされる。Zeffに対する炭素の寄与は、NBI加熱プラズマでは80〜90%であり、NBI+ICRF加熱プラズマでは60%である。真空容器に炭素コーティングを施すと、NBI+ICRF加熱プラズマでもZeffに対する炭素の寄与は80〜90%になる。ICRFパルス投入後の完全電離炭素の動径分布と時間発展から、プラズマ周辺部における炭素不純物の拡散係数Da = 1.0 m²·s⁻¹と対流速度va(a) = 13 m·s⁻¹が得られた。