Mixed beryllium-tungsten-deuterium (Be-W-D) layers (4.4–28.4 at.% W) were codeposited in a magnetron discharge in D2-Ar atmosphere at pressures of 0.8 Pa, 2.7 Pa, and 8 Pa and a substrate temperature of 373 ± 15 K. The composition of the layers was determined using nuclear reaction analysis and Rutherford backscattering spectrometry. D trapping states in the layers were examined using thermal desorption spectroscopy. At all pressures used, the D concentration in the layers has a non-monotonic dependence on the W concentration, with the maximum occurring at 4.4–7.3% W. In this case, the D concentration is about two times greater than that in a Be-D layer; in W-D layers the D concentration is more than one order of magnitude smaller. Increase of pressure during deposition results in an increase of the D concentration in Be-D and Be-W-D (4.4–7.3% W) layers and is linked with the appearance of sharp low-temperature D release peaks near 450 K and 500 K. Increase of pressure also results in steeper decrease of the D concentration with increasing W concentration beyond 7.3%. It is concluded that for the layers deposited at 450 K and above, the effect of the presence of W (4.4–28.4%) on the D retention becomes small.
混合ベリリウム-タングステン-重水素（Be-W-D）層（4.4–28.4 at.% W）を、0.8 Pa、2.7 Pa、8 Paの圧力および373±15 Kの基板温度において、D2-Ar雰囲気中のマグネトロン放電により共堆積させた。層の組成は、核反応分析およびラザフォード後方散乱分光法を用いて決定した。層中のD捕捉状態は、熱脱離分光法を用いて調べた。使用したすべての圧力において、層中のD濃度はW濃度に対して非単調な依存性を示し、最大値は4.4–7.3% Wで生じた。この場合、D濃度はBe-D層の約2倍であった。W-D層では、D濃度は1桁以上小さかった。堆積中の圧力の増加は、Be-D層およびBe-W-D層（4.4–7.3% W）におけるD濃度の増加をもたらし、450 Kおよび500 K付近の鋭い低温D放出ピークの出現と関連していた。圧力の増加はまた、7.3%を超えるW濃度の増加に伴うD濃度のより急激な減少をもたらした。450 K以上で堆積された層については、Wの存在（4.4–28.4%）がD保持に及ぼす影響は小さくなると結論付けられる。