AbstractA new type of boronization system has been installed in the JT-60U tokamak. Decaborane B10H14, a material less hazardous than diborane B2H6 for boronization, has been used to deposit a pure boron film on the first wall. The purpose of the boron film is to reduce the levels of impurity contamination in the JT-60U plasmas. The first results indicate that the film produced from decaborane shows a good performance similar to that of layers produced in the conventional way. The new technique thus offers an easier and more convenient way for boronization of the tokamak first wall.
新型ボロン化システムがJT-60Uトカマクに設置された。ボロン化に際し、ジボランB2H6よりも危険性の低いデカボランB10H14を用いて、第一壁に純粋なボロン膜を堆積させた。このボロン膜の目的は、JT-60Uプラズマ中の不純物汚染レベルを低減することである。最初の結果によれば、デカボランから作製された膜は、従来法で作製された層と同様の良好な性能を示した。この新技術により、トカマク第一壁のボロン化がより容易かつ便利になった。