The thickness of the transport barrier at the plasma edge is discussed, by analyzing the structure of the interface region between the turbulent L-mode region and the region where the transport is strongly-stabilized by the electric field. The effect of this localized radial electric field is prescribed. The spatial profile of turbulence intensity is analyzed by using a simplified model, in which the suppression and transport of turbulence intensity are introduced. The scaling property of the transport barrier is discussed.
プラズマ端部における輸送障壁の厚さについて、乱流的なLモード領域と、電場によって輸送が強く安定化される領域との間の界面領域の構造を解析することにより議論する。この局在した径方向電場の効果は所与のものとして与えられる。乱流強度の空間プロファイルは、乱流強度の抑制と輸送が導入された簡略化モデルを用いて解析される。輸送障壁のスケーリング特性が議論される。