The studies on tungsten (W) sputtering and transport characteristics on EAST tokamak under resonant magnetic perturbation (RMP) fields have been performed with the three-dimensional edge transport code EMC3-EIRENE. The estimation of the W sputtering flux has been carried out based on EMC3-EIRENE modeling for RMP and no RMP applications. The W sputtering flux shows a small difference between RMP and no RMP cases due to weak sensitivity of W sputtering yield on deuterium impact energy for low edge plasma density. However, for high edge plasma density, the strong dependence of W sputtering yield on deuterium impact energy comes into play, which results in a remarkable difference in the W sputtering flux between RMP and no RMP cases. Impacts of the W impurity perpendicular transport on W ions transport have been investigated. With low W perpendicular transport coefficient for RMP case, the edge plasma has a better W ions screening effect for high edge plasma density. The increased W perpendicular transport coefficient results in a good W ions screening effect for both high and low edge plasma densities.
三次元端部輸送コードEMC3-EIRENEを用いて、共鳴磁場摂動（RMP）下におけるEASTトカマク上のタングステン（W）スパッタリングおよび輸送特性に関する研究を実施した。Wスパッタリングフラックスの推定は、RMP適用時および非適用時に対するEMC3-EIRENEモデリングに基づいて行われた。Wスパッタリングフラックスは、低周辺プラズマ密度における重水素入射エネルギーに対するWスパッタリング収率の感度が弱いため、RMP適用時と非適用時の間で小さな差異を示した。しかし、高周辺プラズマ密度では、重水素入射エネルギーに対するWスパッタリング収率の強い依存性が顕在化し、その結果、RMP適用時と非適用時の間でWスパッタリングフラックスに顕著な差異が生じた。W不純物の垂直輸送がWイオン輸送に及ぼす影響についても調査した。RMP適用時において低いW垂直輸送係数の場合、高周辺プラズマ密度で周辺プラズマはより良好なWイオン遮蔽効果を示した。W垂直輸送係数を増加させると、高周辺プラズマ密度および低周辺プラズマ密度の両方において良好なWイオン遮蔽効果が得られた。