In the EXTRAP T2 reversed-field pinch the diagnostic techniques for the measurement of electron density and temperature include; Thomson scattering which gives values at three radial positions in the core (r/a = 0, 0.28, 0.56), Langmuir probes which give values at the edge (r/a > 0.9) and interferometry which gives a line-averaged density. The empirical scaling of electron density and temperature including profile information with global plasma parameters has been studied. The density profile is subject to large variations, with an average parabolic shape when the density is low and flatter shapes when the density is increased. The change in the profile shape can be attributed to a shift in the penetration length of neutrals from the vicinity of the wall. The temperature scales roughly as I/n1/2 where I is the plasma current and n is the density. The temperature profile is always quite flat with lower variations and there is a tendency for a flatter profile at higher temperatures.
EXTRAP T2反転磁場ピンチにおいて、電子密度と電子温度の測定のための診断技術には、コア内の3つの半径位置（r/a = 0、0.28、0.56）で値を与えるトムソン散乱、エッジ（r/a > 0.9）で値を与えるラングミュアプローブ、および線平均密度を与える干渉計が含まれる。電子密度と電子温度の、プロファイル情報を含む経験的スケーリングと、全体のプラズマパラメータとの関係が研究された。密度プロファイルは大きな変動を受け、密度が低い場合には平均的な放物線形状を示し、密度が増加すると平坦な形状になる。プロファイル形状の変化は、壁近傍からの中性粒子の浸透長の変化に帰属できる。温度はおおよそI/n¹/²に比例してスケーリングする。ここでIはプラズマ電流、nは密度である。温度プロファイルは常にほぼ平坦であり、変動は小さく、より高い温度ではより平坦なプロファイルになる傾向がある。