Designing plasma-enhanced chemical vapour deposition (PECVD) reactors to coatlarge-area glass plates (~1 m2) for flat panel display or solarcell manufacturing raises challenging issues in physics and chemistry as wellas mechanical, thermal, and electrical engineering, and material science. Insuch reactive glow discharge plasma slabs, excited at RF frequency (from13.56 MHz up to ~100 MHz), the thin-film deposition uniformity isdetermined by the gas flow distribution, as well as the RF voltagedistribution along the electrodes, and by local plasma perturbations at thereactor boundaries. All these aspects can be approached by analytical andnumerical modelling. Moreover, the film properties are largely determined bythe plasma chemistry involving the neutral radicals contributing to filmgrowth, the effect of ion bombardment, and the formation and trapping of dusttriggered by homogeneous nucleation. This paper will review progress in thisfield, with particular emphasis on modelling developments.
平板ディスプレイや太陽電池製造用の大型ガラス基板（約1 m²）をコーティングするためのプラズマ励起化学蒸着（PECVD）リアクターの設計は、物理学および化学だけでなく、機械工学、熱工学、電気工学、そして材料科学においても困難な課題を提起している。このような反応性グロー放電プラズマスラブ（13.56 MHzから約100 MHzの周波数で励起）において、薄膜堆積の均一性は、ガス流分布、電極に沿ったRF電圧分布、およびリアクター境界における局所的なプラズマ擾乱によって決定される。これらの側面はすべて、解析的および数値的モデリングによってアプローチすることができる。さらに、膜特性は、膜成長に寄与する中性ラジカルを含むプラズマ化学、イオン衝撃の効果、および均一核生成によって引き起こされるダストの形成と捕捉によって大きく決定される。本論文では、特にモデリングの進展に焦点を当てて、この分野の進歩をレビューする。