The effect of static transverse density modulations in the background plasma on fast electron transport is considered. It is shown that such density modulations can drive resistive filamentation in the fast electron beam when the target is sufficiently hot for the Spitzer resistivity to apply. The mechanism of magnetic field generation and filamentation is described both in terms of a semi-analytic model and a linearized analytic model. The results of numerical simulations showing the development of driven filamentation are presented.
背景プラズマ中の静的横方向密度変調が高速電子輸送に及ぼす影響を考察する。このような密度変調は、ターゲットがスピッツァー抵抗率が適用されるほど十分に高温である場合、高速電子ビームにおける抵抗性フィラメンテーションを駆動し得ることが示される。磁場生成とフィラメンテーションのメカニズムは、半解析モデルと線形化解析モデルの両方を用いて記述される。駆動されたフィラメンテーションの発生を示す数値シミュレーションの結果が提示される。