Voltage waveform control of an embedded focus ring electrode to improve edge plasma uniformity and ion incidence angle in capacitively coupled RF dischargesAvailable to Purchase

この論文は、半導体製造に用いられる容量結合RF放電において、埋め込みフォーカスリング電極の電圧波形を制御することで、ウェーハ端部のプラズマ均一性とイオン入射角度を改善する手法を研究しています。エッジ領域の不均一性は製品の歩留まりに影響するため、その改善は重要です。波形制御によってプラズマ分布を調整し、イオンが基板に対して均一な角度で入射するようにできます。これにより、エッチングや成膜の均一性向上が期待できます。特に、プラズマと電極の相互作用を詳しく理解する必要がある分野において、新しい制御方法を提供しています。