A new vertical position control system, including an internal active coil, has become operational on TCV. The new system has made it possible to stabilize plasmas with open loop growth rates up to 4400 s-1, currents up to 1.0 MA and elongations up to 2.58. The closed loop stability of the new system has been analysed with a numerical model in which the plasma is assumed to be undeformable, and the power supply outputs are delayed with respect to their inputs. Model predictions agree with the main experimental results.
新しい垂直位置制御システム（内部アクティブコイルを含む）がTCVで稼働を開始した。この新しいシステムにより、開ループ成長率が毎秒4400まで、電流が1.0 MAまで、伸長度が2.58までのプラズマを安定化することが可能となった。この新しいシステムの閉ループ安定性は、プラズマが非変形であると仮定し、電源出力が入力に対して遅延する数値モデルを用いて解析された。モデル予測は主要な実験結果と一致している。