The excitation of a helicon plasma source by an azimuthally symmetric antenna is considered in comparison with anti-symmetric excitation. The resonances and anti-resonances at the wave excitation, as well as the peculiarities of the power absorption, are shown to be very similar for symmetric and anti-symmetric excitation. The plasma resistance turns out to be higher in the case of symmetric excitation for very short devices. The non-monotonic variation of plasma resistance with density is found to be intrinsic for both methods of excitation as a result of decreasing the power absorption at anti-resonances. This is shown to give rise to abrupt density jumps at varying input power.
ヘリコンプラズマ源の励起を、方位角方向に対称なアンテナによる場合と反対称な励起の場合とを比較して考察する。波動励起における共鳴および反共鳴、ならびに電力吸収の特異性は、対称励起と反対称励起で非常に類似していることが示される。プラズマ抵抗は、非常に短いデバイスにおいて対称励起の場合により高くなることが判明する。プラズマ抵抗の密度に対する非単調な変化は、反共鳴における電力吸収の減少に起因するものであり、両方の励起方法に固有のものであることが示される。これにより、入力電力の変化に応じて密度の急激な跳躍が生じることが示される。