In this paper we use the SSWICH-SW software to calculate the (nonlinear) plasma potential near the ASDEX Upgrade 3-strap antenna for various operating parameters, and compare it with the (linear) parallel electric field strength and the (linear) RF potential. It is believed that the plasma potential is the cause of ion sputtering and additional heat loads on the antenna, and that the parallel electric field strength (as calculated by linear codes without sheath boundary conditions) is a good proxy for the plasma potential, and our results confirm the latter.
本論文では、SSWICH-SWソフトウェアを用いて、様々な運転パラメータに対するASDEX Upgrade 3ストラップアンテナ近傍の（非線形）プラズマ電位を計算し、それを（線形）平行電界強度および（線形）RF電位と比較する。プラズマ電位はアンテナ上のイオンスパッタリングおよび追加熱負荷の原因であると考えられており、また（シース境界条件なしの線形コードで計算される）平行電界強度がプラズマ電位の良い代理指標であると考えられているが、我々の結果は後者を裏付けるものである。