The plasma electron density is measured with multiple diagnostics in the scrape-off layer of the ASDEX Upgrade tokamak. The recorded values are typically in good agreement in the case of exponentially decaying profiles at low densities, but they become inconsistent as soon as a density shoulder is formed, and up to a factor of 3 deviation is experienced at high densities. An idea is put forward; namely, that the local plasma-wall proximity has an influence on the local density and thus the measurement results depend on the local limiter-plasma and limiter-diagnostic distances at the same time. The effect of local wall clearance dependence is demonstrated by creating a plasma having an extremely high scrape-off layer density after the H-L back transition and varying the position of the separatrix in different directions. As a possible physical process, neutral recycling at the plasma facing components is identified. Similar behaviour is also observed in the QCE regime, where the appearance of small ELMs barely impacts the scrape-off layer profiles. There are also indications that the local wall clearance does have an impact on the density profile not only in the scrape-off layer, but also in the confined region.
プラズマ電子密度は、ASDEX Upgradeトカマクのスクレイプオフ層において複数の診断装置で測定される。記録された値は、低密度での指数関数的減衰プロファイルの場合には概ね良好な一致を示すが、密度ショルダーが形成されるとすぐに不整合になり、高密度では最大3倍の偏差が生じる。一つの考えが提唱される。すなわち、局所的なプラズマ-壁間距離が局所密度に影響を及ぼし、そのため測定結果は局所的なリミター-プラズマ距離とリミター-診断装置距離の両方に同時に依存するというものである。局所的な壁クリアランス依存性の効果は、H-L逆遷移後に極めて高いスクレイプオフ層密度を持つプラズマを生成し、セパラトリックスの位置を様々な方向に変化させることによって実証される。可能な物理プロセスとして、プラズマ対向機器における中性粒子リサイクリングが特定される。同様の挙動はQCE領域でも観察され、そこでは小さなELMの出現はスクレイプオフ層プロファイルにほとんど影響を与えない。局所的な壁クリアランスが密度プロファイルに及ぼす影響は、スクレイプオフ層だけでなく閉じ込め領域にも及ぶという兆候もある。