The Doppler broadened profile of a C I line in the infrared (λ =909.5 nm, 3P2 to 3P20) has been measured with high spectral resolution (λ/Δλ > 105) in front of a graphite limiter in the TEXTOR tokamak. The line shows a strong Zeeman effect, but by selecting the pi component with a polarizer, the influence of the magnetic field of TEXTOR on the line shape can be practically eliminated, and the profile is determined only by the velocity distribution of the carbon atoms. By a comparison of shots with a 'detached plasma' and shots with injected gas (CO, CH4) it could be shown that the carbon flux from the limiter is mainly determined by chemical sputtering in a 'detached plasma'. In a plasma attached to the limiter, the energy of the released carbon atoms increases with the electron temperature (Te) at the limiter, the typical width of the line gradually increases from about 16 pm to 50 pm (corresponding to velocities of 5 × 105 to 1.5 × 106 cm/s or energies of 1.5 to 13.5 eV), indicating that physical sputtering dominates at high Te and that chemical sputtering then gives only a small contribution (<15%) to the impurity production at the limiter
ドップラー広がりを受けたC I線（赤外線、λ = 909.5 nm、3P2から3P20への遷移）のプロファイルを、TEXTORトカマクのグラファイトリミッター前面において高スペクトル分解能（λ/Δλ > 105）で測定した。この線は強いゼーマン効果を示すが、偏光子を用いてπ成分を選択することにより、TEXTORの磁場が線形状に及ぼす影響を実質的に排除でき、プロファイルは炭素原子の速度分布のみによって決定される。『デタッチドプラズマ』のショットとガス注入（CO、CH4）を行ったショットとの比較により、リミッターからの炭素フラックスは『デタッチドプラズマ』において主に化学スパッタリングによって決定されることが示された。リミッターに付着したプラズマでは、放出される炭素原子のエネルギーはリミッターにおける電子温度（Te）とともに増加し、線幅の典型的な値は約16 pmから50 pm（速度5 × 105〜1.5 × 106 cm/s、エネルギー1.5〜13.5 eVに相当）へと徐々に増加する。これは、高いTeでは物理スパッタリングが支配的であり、化学スパッタリングはリミッターにおける不純物生成にわずかな寄与（<15%）しか与えないことを示している。