Tungsten erosion in the ASDEX Upgrade divertor has been measured by observing the WI emission at 400.9 nm. The sputtering yield is in the region of atoms/ion for typical divertor plasma conditions. By comparison of the measured sputtering yield with modelled sputtering yields one can conclude that tungsten erosion is dominated by plasma impurities. Adding impurities without cooling the boundary plasma increases the sputtering yield due to the additional impact energy gained by the particle in the sheath potential caused by its higher net charge. Cooling the boundary plasma by adding more impurities or increasing the plasma density leads to a strong decrease in the tungsten erosion. By comparison of the tungsten influx with the measured net erosion the prompt redeposition was determined. The redeposited fraction of tungsten increases significantly with a higher divertor electron density as expected.
ASDEX Upgradeにおけるタングステンの侵食は、400.9 nmでのWI発光を観測することにより測定された。スパッタリング収率は、典型的なダイバータプラズマ条件において、atoms/ionの領域にある。測定されたスパッタリング収率をモデル化されたスパッタリング収率と比較することにより、タングステンの侵食はプラズマ不純物によって支配されていると結論づけることができる。境界プラズマを冷却せずに不純物を添加すると、シース電位における粒子の正味電荷の増加による追加の衝突エネルギー獲得の結果として、スパッタリング収率が増加する。不純物の添加またはプラズマ密度の増加によって境界プラズマを冷却すると、タングステンの侵食は大幅に減少する。タングステンの流入量を測定された正味の侵食量と比較することにより、即時再堆積が決定された。タングステンの再堆積割合は、予想通り、ダイバータ電子密度の増加に伴って有意に増加する。