The effect of plasma shaping (triangularity and elongation) on sawtoothstability is addressed as well as the technique of current profile broadening using off-axis ECHto enlarge the operational range towards higher elongations. The plasma shape strongly influencesthe sawtooth period and amplitude. This effect is emphasized by ECH, with the sawtooth period becoming shorter at low triangularity or at high elongation; for these plasma shapes, the pressure profile inside the q = 1 surface remains essentiallyflat throughout the sawtooth cycle. A comparison of the sawtooth response with marginal Mercier stability shows that the critical pressure gradient at q = 1 is particularly low for plasma shapes where the increased sawtooth repetition frequency prevents the peaking of the pressure profiles. For these shapes, stability calculations show that the ideal internalkink is also unstable. The stability of highly elongated plasmas depends largely on the current profiles. The operational range at low currents has been extended towards higher elongations using ECH discharges. Far off-axis second harmonic X mode ECHpower deposition proves to be an efficient tool for current profile tailoring, allowing a significant elongation increase at constant quadrupole field.
プラズマ形状（三角形度と伸長度）がサブトゥース安定性に及ぼす影響を扱うとともに、オフアクシスECHを用いた電流分布平坦化により、高い伸長度領域へ運転範囲を拡大する手法について論じる。プラズマ形状はサブトゥース周期と振幅に強く影響する。この効果はECHによって強調され、低三角形度または高伸長度ではサブトゥース周期が短くなる。これらのプラズマ形状では、q=1面内部の圧力分布はサブトゥース周期全体を通じてほぼ平坦なままである。サブトゥース応答とマージナルMercier安定性との比較から、サブトゥース繰り返し頻度の増加が圧力分布のピーキングを防ぐプラズマ形状では、q=1面における臨界圧力勾配が特に低いことが示される。これらの形状では、理想内部キンクモードも不安定であることが安定性計算により示される。高伸長度プラズマの安定性は電流分布に大きく依存する。低電流における運転範囲は、ECHを用いた放電により高伸長度側へ拡張された。遠軸第2高調波XモードECHパワー堆積は、電流分布整形の効率的な手法であり、四重極磁場を一定に保ったまま伸長度を大幅に増加させることを可能にする。